Sheika Fond de Ten Armour 6427416351795 | Kendra
Easter SALE

SHEIKA

Fond de Ten Armour

02 Medium Warm / 32 ml
6427416351795
126.00 lei T.V.A. inclus 180.00 lei -30%
*Oferta valabila in perioada 12.04. – 06.05.2024
UNDER-MASK SILK FOUNDATION: Fondul de ten ARMOUR este rezistent la transfer chiar si sub masca protectiva, oferind tenului un aspect matasos si asigura o acoperire ridicata fara a se strange sau bloca porii. Fondul de ten Armour cu o formula fara ulei ofera un echilibru perfect intre o textura extrem de lejera, cu un glow natural si o acoperire completa cu grad ridicat.Datorita formulei fara ulei cu fondul de ten ARMOUR poti obtine o acoperire impecabila chiar daca ai o complexitate a pielii temperamentala. Cu pigmenti ce ofera pielii un aspect extrem de matasos si un finish nici prea mat nici prea lucios, acest fond de ten este perfect pentru tine!
denumire
Fond de Ten Armour
brand
SHEIKA
cod produs
6427416351795
Volum
32 ml
Cod culoare
02 Medium Warm
Tip
Dama
Categorie
Machiaj
Machiaj
Ten
Produse Ten
Fond de ten
Stare
Promotie
Textura
Lichid
Acoperire
Mare
Efect
Natural, Lunga durata, Mat
Instructiuni de utilizare
Asigura-te ca pielea ta este hidratata inainte de aplicarea fondului de ten.
Agita intotdeauna intre 3-5 secunde inainte de utilizare pentru activarea formulei.
Aplica produsul cu buricele degetelor unde doresti acoperire, pentru un finish soft, matasos.Foloseste o pensula pentru fond de ten pentru o acoperire completa .Pentru o acoperire mai mare, mareste cantitatea de produs folosita./span>
Ingrediente*
Aqua/water, Dimethicone, Isononylisononanoate, Glycerin, Talc, Silica, Isododecane, Titanium Dioxide, Polyglyceryl-2 Triisostearate, Peg-4 Olivate, Peg-30v Dipolyhydroxystearate, Magnesium Stearate, Magnesium Sulfate, Bentonite, Kaolin, Ethylhexyglyceryn, Hyaluronic acid, Cellulose, Dextrin, Tocopherols/Vitamin E, Phenoxyethanol, Parfum, May contain +/-: Titanium Dioxide(CI77891), Iron oxides(CI 77492, CI 77491, CI 77499)
*Pentru ingrediente, consultati si ambalajul produsului achizitionat.